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TS-D 干法激光粒度儀

簡要描述:TS-D 干法激光粒度儀新型樣品池設(shè)計,內(nèi)置電腦,測試計算一體化設(shè)計,測試系統(tǒng)模塊設(shè)計,隨時可升級為干濕兩用激光粒度儀(TS-DW系列)

  • 產(chǎn)品型號:
  • 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • 更新時間:2024-04-07
  • 訪  問  量:3171

詳細介紹

品牌INNUO/盈諾分辨率0.01微米
測量范圍0.1-200、0.1-400、0.1-600、0.1-1000微米重現(xiàn)性< 1%
分散方式干法分散價格區(qū)間面議
儀器種類靜態(tài)光散射產(chǎn)地類別國產(chǎn)

TS-D 干法激光粒度儀?

應(yīng)用范圍:

      TS-D 干法激光粒度儀廣泛應(yīng)用于材料、化工、制藥、精細陶瓷、建材、石油、電力、冶金、食品、化妝品、高分子、油漆、涂料、碳黑、高嶺土、氧化物、碳酸鹽、金屬粉末、耐火材料、添加劑等以顆粒物作為生產(chǎn)原材料、產(chǎn)品、中間體等

符合但不局限于以下國標:

       ISO 13320-2009    G/BT 19077.1-2008 粒度分析 激光衍射法

技術(shù)特點:

1.*的半導體制冷恒溫控制綠色固體激光器做光源,波長短、體積小、工作穩(wěn)定、壽命長;

2.*設(shè)計大直徑光靶,保證測量范圍大,0.1-1000微米全測量范圍內(nèi)不需要更換鏡頭或移動樣品池;

3.集多年研究之成果,米氏理論的*應(yīng)用;

4.*反演算法,保證顆粒測量的準確;

5.USB接口,儀器與計算機一體化,避免設(shè)備電腦兼容性問題、連接問題。

6.樣品池模塊化設(shè)計,更換模塊可實現(xiàn)不同的測試模式;干法樣品池新型進樣分散系統(tǒng)、配置空氣抽取系統(tǒng),實現(xiàn)樣品粉塵均勻流動。

7.樣品測量可*自動化,除添加樣品外,只要連接好干法樣品池,即可全自動測量;同時也提供手動測量菜單;

8.軟件個性化,提供測量向?qū)У缺姸喙δ埽奖阌脩舨僮鳎?/span>

9.測量結(jié)果輸出數(shù)據(jù)豐富,保存在數(shù)據(jù)庫中,能用任意參數(shù),如操作者姓名,樣品名,日期,時間等進行調(diào)用分析,與其他軟件實現(xiàn)數(shù)據(jù)共享;

10.儀器造型美觀,體積小重量輕;

11.測量精度高,重復性好,測量時間短;

12.軟件提供眾多物質(zhì)折射率供用戶選擇,滿足用戶查找被測顆粒折射率要求;

143考慮到測試結(jié)果的保密要求,只有授權(quán)操作者才能進入相應(yīng)數(shù)據(jù)庫讀取數(shù)據(jù)和處理;

14.內(nèi)嵌10.8寸工業(yè)級別的電腦,WIN 10系統(tǒng),30GB硬盤容量、2GB系統(tǒng)內(nèi)存,可連接鍵盤、鼠標、U盤

15.本儀器符合但并不局限于以下標準:

   ISO 13320-2009     G/BT 19077.1-2008 粒度分析 激光衍射法

技術(shù)參數(shù)

型號

TS-D1

TS-D2

TS-D3

TS-D4

理論依據(jù)

Mie散射理論

粒徑測量范圍

0.1-200um

0.1-400um

0.1-600um

0.1-1000um

光源

半導體制冷恒溫控制紅光固體激光光源,波長635nm

重復性誤差

<1%(標準D50偏差)

測量誤差

<1%(標準D50偏差,用國家標準顆粒檢驗)

檢測器

32或48通道硅光電二極管

樣品池

干法樣品池

測量分析時間

正常條件下小于1分鐘(從開始測量到顯示分析結(jié)果)

輸出內(nèi)容

體積、數(shù)量微分分布和累積分布表和圖表;多種統(tǒng)計平均直徑;操作者信息;實驗樣品信息、分散介質(zhì)信息等。

顯示方式

內(nèi)嵌10.8寸工業(yè)級別的電腦,可連接鍵盤、鼠標、U盤

電腦系統(tǒng)

WIN 10系統(tǒng),30GB硬盤容量、2GB系統(tǒng)內(nèi)存

電源

220V,50 Hz

 

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